Высокоточный спектроскопический эллипсометр | Система неразрушающего измерения толщины тонких пленок и показателя преломления

Приложения

Эта система широко применяется в производстве полупроводников, нанесении оптических покрытий, разработке плоских панельных дисплеев, фотоэлектрических элементов (солнечных батарей), исследованиях в области материаловедения и биосенсорике.

Почему стоит выбрать наше решение?

Будучи профессиональным производителем с мощными научно-исследовательскими возможностями, мы предлагаем цены напрямую от производителя, настраиваемые конфигурации и специализированную техническую поддержку. Независимо от того, требуется ли вам настольная система для лабораторного анализа или поточное решение для мониторинга производства, мы можем адаптировать прибор к вашим конкретным потребностям в измерениях.

Запросить ценовое предложение

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы обсудить вашу задачу или запросить коммерческое предложение. Наша команда предоставляет бесплатные технические консультации, чтобы помочь вам выбрать оптимальное решение для измерения тонких пленок.

Основные технические параметры

1. Возможности измерения: элементы матрицы Мюллера 16-го порядка, спектр поляризации ψ/Δ, показатель преломления, толщина, двулучепреломление, диэлектрическая постоянная и т. д.

2. Спектральный диапазон: 210 нм – 1690 нм

3. Расстояние между длинами волн: ≤0,8 нм при 210–1000 нм, ≤3,5 нм при 1000–1690 нм

4. Время измерения в одной точке: ≤10 с

5. Размер микропятна: ≤200 мкм

6. Технология модуляции: модуляция с помощью системы двойного вращающегося компенсатора PCSCA.

7. Автоматический предметный столик: автоматическая фокусировка по оси Z, максимальное перемещение 18 мм, минимальный шаг 1 мкм.

8. Точность повторяемости толщины пленки: ≤0,005 нм (100 нм SiO2/Si, 30 повторных измерений, рассчитано как 1σ)

9. Точность воспроизводимости показателя преломления: ≤0,0002 (100 нм SiO2/Si, 30 повторных измерений, рассчитано как 1σ)

10. Абсолютная точность толщины пленки: ≤0,5% (100 нм SiO2/Si, предоставляется отчет независимой метрологической организации)

11. Функция картирования: Используется высокоточный автоматический сканирующий столик типа x/y, поддерживает автоматическое позиционирование и сканирование подложек размером 2/4/6/8 дюймов, точность воспроизведения ≤6 мкм, создание 2D/3D карт распределения толщины пленки одним щелчком мыши.

12. Лазерная локация и фокусировка: автоматическое позиционирование по фокусному расстоянию с помощью оптического пути отражения лазера, ход фокусировки ≤3 мм.

13. Модель разности: автоматически рассчитывает данные разности psi-diff и delta-diff.

14. Программное обеспечение для анализа: включает не менее 5 различных режимов измерения, встроенную базу данных n/k для более чем 100 оптических материалов и поддерживает создание пользовательских баз данных; обладает возможностями тестирования и моделирования тонких пленок с чередующимися слоями, однослойных, многослойных (до 30 слоев) и композитных, включая модели Коши, Селлмейера, Таука-Лоренца, B-сплайна и осциллятора, а также поддерживает автономное лицензирование программного обеспечения.

Технические характеристики

I. Введение в оборудование

Спектроэллипсометр ME-Mapping использует технологию модуляции с двойным компенсатором вращения в сочетании с высокоточными алгоритмами анализа данных. Он позволяет получать все 16 элементов полной матрицы Мюллера и поляризационного спектра за одно измерение, обеспечивая быстрое и неразрушающее измерение образцов. Прибор отличается стабильной конструкцией оптического пути и использует полупроводниковый охлаждаемый детектор, регистрируя сигналы интенсивности света за считанные секунды. Он обеспечивает более высокую скорость измерения и более высокую точность, поддерживая точное измерение таких параметров, как толщина, показатель преломления, коэффициент поглощения и оптическая диэлектрическая постоянная для различных тонкопленочных материалов. Кроме того, его можно оснастить «повторяющимися позиционирующими платформами для пластин» различных размеров для многоточечного сканирования образцов больших размеров.