In halfgeleiderfabrieken, R&D-laboratoria en faciliteiten voor optische coatings is het van cruciaal belang om de exacte dikte en optische eigenschappen van dunne films te kennen. Traditionele contactmethoden kunnen echter delicate monsters beschadigen of essentiële gegevens missen. Vandaag kondigt MSK (Tianjin) International Trading CO.,Ltd. zijn nieuwste spectroscopische ellipsometer aan, een niet-destructief instrument voor diktemeting, speciaal ontwikkeld voormeting van de waferdikte, analyse van de brekingsindex en karakterisering van meerlaagse structuren.
Dit nieuwe systeem combineert een breed spectraalbereik, hoge gevoeligheid en gebruiksvriendelijke modelleringssoftware – alles in een compact platform van onderzoekskwaliteit. Of u nu ultradunne gate-oxiden, antireflectiecoatings op zonnecellen of complexe OLED-structuren wilt meten, de spectroscopische ellipsometer van MSK levert betrouwbare, reproduceerbare gegevens zonder uw monster aan te raken of te beschadigen.
"Ingenieurs worstelen vaak met het vinden van een balans tussen precisie, snelheid en monsterveiligheid."aldus een senior productmanager van MSK."Onze spectroscopische ellipsometer biedt hiervoor de oplossing. Als echt diktemeetinstrument meet het de dikte van wafers en analyseert het de optische constanten binnen enkele seconden, zonder risico op krassen of vervuiling."
Waarom zou u voor deze spectroscopische ellipsometer kiezen als uw instrument voor diktemeting?
In tegenstelling tot profielen met één golflengte of mechanische profielen, gebruikt deze spectroscopische ellipsometer gepolariseerd licht om te analyseren hoe een dunne film de polarisatietoestand van het licht beïnvloedt. Op basis van die meting berekent het apparaat meerdere parameters tegelijk:
- Filmdikte (van enkele laag tot complexe meerlaagse stapels)
- Brekingsindex (n) en extinctiecoëfficiënt (k)
- Optische bandafstand (Eg)
- Oppervlakteruwheid
Als veelzijdig diktemeetinstrument kan het diktes meten van ultradunne (subnanometer) tot relatief dikke films, waardoor het geschikt is voor alles van atomaire laagdunne depositie tot polymeercoatings op micronniveau.
Niet-destructieve waferdiktemeting – cruciaal voor de halfgeleiderproductie
Voor de productie van halfgeleiders,meting van de waferdikteis essentieel voor het beheersen van depositie-, ets- en CMP-processen. Mechanische profielmeters kunnen echter zachte films krassen, en optische reflectometers missen vaak de gevoeligheid voor meerlaagse structuren.
De spectroscopische ellipsometer van MSK overwint deze beperkingen:
- Contactloos en niet-destructief – geen risico op beschadiging van bedrukte wafers of delicate films.
- Hoge gevoeligheid – in staat om diktevariaties van minder dan een nanometer over de gehele wafer te detecteren.
- Analyse van meerdere lagen – meet individuele lagen in complexe stapels (bijv. SiO₂/Si₃N₄/poly-Si) zonder onderlinge beïnvloeding.
Het systeem omvat een automatische karteringsmodule die wafers tot 200 mm (8 inch) met nauwkeurige positionering ondersteunt. Gebruikers kunnen met één klik 2D- en 3D-dikteverdelingskaarten genereren – ideaal voor het bewaken van de procesuniformiteit.
Voorbij halfgeleiders: breed toepassingsgebied
Hoewel geoptimaliseerd voor het meten van de dikte van wafers, wordt deze spectroscopische ellipsometer in veel industrieën gebruikt:
- Platte beeldschermen – meet de laagdikte van OLED- en TFT-schermen
- Fotovoltaïsche cellen – karakterisering van antireflectiecoatings, transparante geleidende oxiden en absorptielagen.
- Optische coatings – controleer banddoorlaatfilters, antireflectielagen en spiegels met hoge reflectiviteit.
- Materiaalwetenschap – de studie van dunne films, 2D-materialen en polymeren.
- Biosensing – detectie van moleculaire lagen op gefunctionaliseerde oppervlakken
Het brede spectrale bereik van het instrument (van ultraviolet tot nabij-infrarood) maakt het mogelijk om materialen te karakteriseren, van diep-UV-lithografiefilms tot infrarood optische coatings.
Geavanceerde maar gebruiksvriendelijke software die voor u werkt.
Een krachtig diktemeetinstrument moet ook praktisch zijn voor dagelijks gebruik. MSK'sspectroscopische ellipsometerWordt geleverd met uitgebreide analysesoftware die de volgende functies biedt:
- Voorgeprogrammeerde database met optische constanten – meer dan 100 materialen, waaronder veelvoorkomende halfgeleiders, diëlektrica en metalen.
- Meerdere dispersiemodellen – Cauchy, Sellmeier, Tauc-Lorentz, B-spline, oscillatoren en meer
- Meerlaagse montage – ondersteunt tot 30 lagen, inclusief overgangen met verschillende oppervlakteruwheid.
- Mapping met één klik – genereert automatisch rapporten over de dikteuniformiteit van wafers en grote substraten.
- Offline licenties – maken data-analyse op aparte computers mogelijk zonder het instrument te blokkeren.
De begeleide, interactieve interface verkort de trainingstijd – nieuwe gebruikers kunnen binnen enkele minuten routinematige waferdiktemetingen uitvoeren.
Ontworpen voor onderzoeks- en productieomgevingen.
MSK biedt deze spectroscopische ellipsometer in verschillende configuraties aan om aan uw behoeften te voldoen:
- Tafelmodel systeem – perfect voor R&D-laboratoria en universitair onderzoek.
- Mappingconfiguratie – inclusief zeer nauwkeurige X/Y-tafel voor geautomatiseerd scannen van wafers
- Aanpasbare spectrale bereiken – van diep UV (193 nm) tot kortgolvig infrarood (2500 nm)
- Temperatuurgeregelde preparatietafels – voor metingen ter plaatse tot 1000 °C
Het instrument maakt gebruik van een dubbel roterende compensatortechnologie, waarmee alle 16 Mueller-matrixelementen in één meting worden gemeten. Dit levert rijkere gegevens op dan conventionele ellipsometers – met name nuttig voor anisotrope of depolariserende monsters.
Betrouwbare prestaties voor kritische kwaliteitscontrole.
In productieomgevingen is herhaalbaarheid alles. De spectroscopische ellipsometer van MSK levert uitzonderlijke stabiliteit dankzij:
- Halfgeleidergekoelde detectoren – lage ruis, hoog dynamisch bereik
- Laserautofocus – zorgt voor een constante scherpstelling over het gehele monster.
- Stabiel optisch padontwerp – minimaliseert afwijkingen tussen kalibraties
Het systeem voldoet aan strenge industrienormen en MSK levert onafhankelijke metrologische rapporten om de absolute diktenauwkeurigheid van standaardmonsters te verifiëren.
Aanpassing en ondersteuning – Afgestemd op uw toepassing
MSK begrijpt dat elke dunnefilmtoepassing uniek is. Daarom biedt het bedrijf het volgende:
- Aangepaste spectrale bereikuitbreidingen – kies de banden die bij uw materialen passen.
- Gespecialiseerde monsterhouders – voor niet-standaard waferformaten of substraten met een ongebruikelijke vorm.
- Softwareaanpassing – voeg specifieke analysemodellen of automatiseringsroutines toe.
- Installatie en training op locatie – zorg dat uw team snel aan de slag kan.
Omdat dit een uiterst nauwkeurig instrument is, is de prijs die op de productpagina wordt weergegeven slechts een aanbetaling. MSK nodigt serieuze kopers uit om contact op te nemen met het verkoopteam voor een exacte prijsopgave op basis van de gewenste configuratie.
Gratis technisch advies en demonstratie
Weet u niet zeker of ellipsometrie geschikt is voor uw materiaal? MSK biedt gratis technisch advies.
Beschikbaarheid en contactgegevens
De nieuwe serie spectroscopische ellipsometers is per direct wereldwijd te bestellen. Vraag een offerte aan, ontvang een productbrochure of plan een live online demonstratie:
Email: molly@mskcnctools.com
Telefoon: 0086-13602071763
Web:www.mskcnctools.com
MSK verwelkomt aanvragen van halfgeleiderfabrikanten, onderzoeksinstellingen, fabrikanten van optische coatings en producenten van zonnecellen – van losse eenheden tot complete systemen.
Over MSK CNC-gereedschap
MSK (Tianjin) Cutting Technology Co., Ltd., opgericht in 2015 en ISO 9001-gecertificeerd, is gespecialiseerd in uiterst nauwkeurige meetinstrumenten en CNC-snijgereedschappen. Met Duitse en Taiwanese productieapparatuur en een toegewijd R&D-team bedient MSK klanten in Europa, Amerika en Azië. De missie van het bedrijf is het leveren van geavanceerde, betrouwbare en kosteneffectieve oplossingen voor materiaalkarakterisering en -bewerking.
Geplaatst op: 10 april 2026
