半導体製造工場、研究開発ラボ、光学コーティング施設では、薄膜の正確な厚さと光学特性を知ることが非常に重要ですが、従来の接触式測定法では繊細なサンプルを損傷したり、重要なデータを見逃したりする可能性があります。本日、MSK（天津）国際貿易有限公司は、最新の分光エリプソメーターを発表しました。これは、薄膜の正確な厚さと光学特性を知るために設計された非破壊厚さ測定装置です。ウェーハ厚さ測定屈折率分析、および多層構造の特性評価。
この新しいシステムは、広いスペクトル範囲、高感度、そして使いやすいモデリングソフトウェアを、コンパクトな研究グレードのプラットフォームに統合しています。超薄型ゲート酸化膜、太陽電池の反射防止コーティング、複雑なOLEDスタックなど、どのような測定対象であっても、MSKの分光エリプソメーターは、サンプルに接触したり損傷を与えたりすることなく、信頼性の高い再現性のあるデータを提供します。
「エンジニアは、精度、速度、そしてサンプルの安全性のバランスを取ることにしばしば苦労する。」MSKのシニア製品マネージャーはこう述べた。「当社の分光エリプソメーターは、その問題を解決します。真の厚み測定装置として、ウェーハの厚み測定と光学定数分析を数秒で提供し、傷や汚染のリスクはゼロです。」
厚み測定器としてこの分光エリプソメーターを選ぶ理由
単一波長型や機械式プロファイラーとは異なり、この分光エリプソメーターは偏光を用いて薄膜が光の偏光状態をどのように変化させるかを解析します。そして、その測定結果から複数のパラメータを同時に算出します。
- 膜厚（単層から複雑な多層構造まで）
- 屈折率（n）と消衰係数（k）
- 光学的バンドギャップ（Eg）
- 表面粗さ
汎用性の高い膜厚測定器として、極薄（サブナノメートル）から比較的厚い膜までの厚さに対応できるため、原子層堆積からミクロンサイズのポリマーコーティングまで、あらゆる用途に適しています。
非破壊ウェーハ厚さ測定 – 半導体製造に不可欠
半導体製造においては、ウェーハ厚さ測定成膜、エッチング、CMPプロセスを制御するには、測定が不可欠です。しかし、機械式スタイラスプロファイラーは軟質膜を傷つける可能性があり、光学式反射率計は多層構造の感度が不足している場合が多いです。
MSKの分光エリプソメーターは、これらの制約を克服しています。
- 非接触・非破壊式なので、パターン化されたウェハーや繊細なフィルムを損傷するリスクがありません。
- 高感度 – ウェハー全体にわたるサブナノメートル厚の変動を検出可能
- 多層分析 – クロストークなしで複雑な積層構造（例：SiO₂/Si₃N₄/ポリシリコン）の個々の層を測定します。
本システムには、最大8インチ（200mm）のウェハを高精度に位置決めできる自動マッピングステージが搭載されています。ユーザーはワンクリックで2Dおよび3Dの厚み分布マップを生成でき、プロセス均一性のモニタリングに最適です。
半導体を超えて：幅広い応用範囲
この分光エリプソメーターは、ウェーハ厚さ測定に最適化されていますが、多くの産業分野で活用されています。
- フラットパネルディスプレイ – OLEDおよびTFT層の厚さを測定する
- 太陽光発電 – 反射防止コーティング、透明導電性酸化物、および吸収層の特性評価
- 光学コーティング – バンドパスフィルター、反射防止スタック、高反射率ミラーの検証
- 材料科学 – 薄膜、2次元材料、ポリマーの研究
- バイオセンシング – 機能化された表面上の分子層を検出する
この装置は広いスペクトル範囲（紫外線から近赤外線まで）を備えているため、深紫外リソグラフィーフィルムから赤外線光学コーティングまで、様々な材料の特性評価が可能です。
高度でありながら使いやすい：あなたのニーズに合ったソフトウェア
強力な厚み測定器は、日常的に実用的である必要もある。MSKの分光エリプソメーター包括的な分析ソフトウェアが付属しており、以下の機能を備えています。
- あらかじめ構築された光学定数データベース – 一般的な半導体、誘電体、金属など100種類以上の材料を収録
- 複数の分散モデル – コーシー、セルマイヤー、タウク・ローレンツ、Bスプライン、発振器など
- 多層フィッティング – 最大30層まで対応（段階的な界面や表面粗さを含む）
- ワンクリックマッピング – ウェーハおよび大型基板の厚さ均一性レポートを自動生成
- オフラインライセンス – 機器を占有することなく、別のコンピュータでデータ分析が可能
ガイド付きのインタラクティブなインターフェースにより、トレーニング時間が短縮されます。新規ユーザーは数分以内に日常的なウェーハ厚さ測定を実行できるようになります。
研究開発および生産環境向けに設計されています。
MSKは、お客様のニーズに合わせて、この分光エリプソメーターを複数の構成で提供しています。
- 卓上型システム – 研究開発ラボや大学の研究に最適
- マッピング構成 – 自動ウェーハスキャン用の高精度X/Yステージを含む
- カスタマイズ可能なスペクトル範囲 – 深紫外線（193nm）から短波赤外線（2500nm）まで
- 温度制御ステージオプション – 最大1000℃までの現場測定に対応
この装置は、二重回転補償器技術を採用しており、1回の測定で16個のミュラー行列要素すべてを測定します。これにより、従来のエリプソメーターよりも豊富なデータが得られ、特に異方性試料や偏光解消試料の測定に有効です。
重要な品質管理のための信頼性の高いパフォーマンス
生産現場においては、再現性が何よりも重要です。MSKの分光エリプソメーターは、以下の特長により卓越した安定性を実現しています。
- 半導体冷却型検出器 – 低ノイズ、高ダイナミックレンジ
- レーザーオートフォーカス – サンプル全体にわたって一定の焦点位置を維持します
- 安定した光路設計により、キャリブレーション間のドリフトを最小限に抑えます。
このシステムは厳格な業界基準を満たしており、MSKは標準サンプルにおける絶対的な厚さ精度を検証するために、第三者機関による計測レポートを提供しています。
カスタマイズとサポート – お客様のアプリケーションに合わせたサービス
MSKは、薄膜アプリケーションはそれぞれ固有のものであることを理解しています。そのため、同社は以下のサービスを提供しています。
- カスタムスペクトル範囲拡張 – 使用する材料に合ったバンドを選択してください
- 特殊なサンプルステージ – 標準サイズ以外のウェハーや特殊な形状の基板に対応
- ソフトウェアのカスタマイズ – 特定の分析モデルや自動化ルーチンを追加する
- オンサイトでの設置とトレーニング – チームがすぐに使いこなせるようになります
本製品は高精度機器のため、製品ページに表示されている価格は手付金のみです。MSKでは、ご購入をご検討されているお客様に、ご希望の構成に基づいた正確な見積もりをご提供いたしますので、営業チームまでお問い合わせいただくことをお勧めいたします。
無料の技術相談とデモ
エリプソメトリーがご使用の材料に適しているかどうかご不明ですか？MSKでは無料の技術相談を提供しています。
空き状況と連絡先情報
新しい分光エリプソメーターシリーズは、世界各国からのご注文を承っております。お見積もり、製品パンフレットのご請求、またはオンラインデモのご予約は、下記までお問い合わせください。
Email: molly@mskcnctools.com
電話番号：0086-13602071763
ウェブ：www.mskcnctools.com
MSKは、半導体製造工場、研究機関、光学コーティングメーカー、太陽電池メーカーからの問い合わせを歓迎します。単体ユニットから複数システムまで、幅広く対応いたします。
MSK CNC Toolsについて
2015年に設立され、ISO 9001認証を取得しているMSK（天津）切削技術有限公司は、高精度計測機器とCNC切削工具を専門としています。ドイツと台湾製の製造設備と専任の研究開発チームを擁するMSKは、ヨーロッパ、アメリカ、アジアの顧客にサービスを提供しています。同社の使命は、材料特性評価と機械加工のための、高度で信頼性が高く、費用対効果の高いソリューションを提供することです。
投稿日時：2026年4月10日
