Negli stabilimenti di produzione di semiconduttori, nei laboratori di ricerca e sviluppo e negli impianti di rivestimento ottico, conoscere lo spessore esatto e le proprietà ottiche dei film sottili è fondamentale, ma i metodi di contatto tradizionali possono danneggiare campioni delicati o non rilevare dati cruciali. Oggi, MSK (Tianjin) International Trading CO.,Ltd. annuncia il suo ultimo ellissometro spettroscopico, uno strumento di misurazione dello spessore non distruttivo progettato permisurazione dello spessore del wafer, analisi dell'indice di rifrazione e caratterizzazione di strutture multistrato.
Questo nuovo sistema combina un ampio intervallo spettrale, un'elevata sensibilità e un software di modellazione intuitivo, il tutto in una piattaforma compatta di livello professionale. Che si tratti di misurare ossidi di gate ultrasottili, rivestimenti antiriflesso su celle solari o complessi stack OLED, l'ellissometro spettroscopico di MSK fornisce dati affidabili e ripetibili senza contatto o danneggiamento del campione.
"Gli ingegneri spesso faticano a trovare un equilibrio tra precisione, velocità e sicurezza del campione."ha affermato un responsabile senior dei prodotti MSK.“Il nostro ellissometro spettroscopico risolve questo problema: in quanto vero e proprio strumento di misurazione dello spessore, fornisce la misurazione dello spessore del wafer e l'analisi delle costanti ottiche in pochi secondi, senza alcun rischio di graffi o contaminazione.”
Perché scegliere questo ellissometro spettroscopico come strumento di misurazione dello spessore?
A differenza dei profilometri a singola lunghezza d'onda o meccanici, questo ellissometro spettroscopico utilizza luce polarizzata per analizzare come una pellicola sottile modifica lo stato di polarizzazione della luce. Da questa misurazione, calcola simultaneamente molteplici parametri:
- Spessore del film (da monostrato a complesse strutture multistrato)
- Indice di rifrazione (n) e coefficiente di estinzione (k)
- banda proibita ottica (Eg)
- Rugosità superficiale
Essendo uno strumento versatile per la misurazione dello spessore, è in grado di gestire spessori che vanno da film ultrasottili (inferiori al nanometro) a film relativamente spessi, risultando quindi adatto a qualsiasi applicazione, dalla deposizione di strati atomici ai rivestimenti polimerici su scala micrometrica.
Misurazione non distruttiva dello spessore dei wafer: fondamentale per la produzione di semiconduttori.
Per la produzione di semiconduttori,misurazione dello spessore del waferÈ essenziale per controllare i processi di deposizione, incisione e CMP. Tuttavia, i profilometri a stilo meccanici possono graffiare i film sottili, e i riflettometri ottici spesso mancano di sensibilità per le strutture multistrato.
L'ellissometro spettroscopico del MSK supera queste limitazioni:
- Senza contatto e non distruttivo: nessun rischio di danneggiare wafer con motivi o pellicole delicate.
- Elevata sensibilità: in grado di rilevare variazioni di spessore inferiori al nanometro su tutta la superficie del wafer.
- Analisi multistrato: misura i singoli strati in pile complesse (ad esempio, SiO₂/Si₃N₄/poli-Si) senza interferenze.
Il sistema include una piattaforma di mappatura automatica che supporta wafer fino a 8 pollici (200 mm) con posizionamento preciso. Gli utenti possono generare mappe di distribuzione dello spessore 2D e 3D con un solo clic, ideale per il monitoraggio dell'uniformità del processo.
Oltre i semiconduttori: un'ampia gamma di applicazioni.
Sebbene ottimizzato per la misurazione dello spessore dei wafer, questo ellissometro spettroscopico trova applicazione in numerosi settori industriali:
- Schermi a schermo piatto: misurazione dello spessore degli strati OLED e TFT
- Fotovoltaico – caratterizzazione di rivestimenti antiriflesso, ossidi conduttivi trasparenti e strati assorbenti
- Rivestimenti ottici: verifica dei filtri passa-banda, degli strati antiriflesso e degli specchi ad alta riflettività.
- Scienza dei materiali: studio di film sottili, materiali bidimensionali e polimeri.
- Biosensing – rilevamento di strati molecolari su superfici funzionalizzate
L'ampio intervallo spettrale dello strumento (dall'ultravioletto al vicino infrarosso) gli consente di caratterizzare materiali che vanno dalle pellicole per litografia UV profonda ai rivestimenti ottici a infrarossi.
Avanzato ma facile da usare: un software che si adatta alle tue esigenze.
Uno strumento di misurazione dello spessore potente deve essere anche pratico per l'uso quotidiano. MSKellissometro spettroscopicoviene fornito con un software di analisi completo che include:
- Database di costanti ottiche predefinito: oltre 100 materiali, inclusi semiconduttori, dielettrici e metalli comuni.
- Diversi modelli di dispersione: Cauchy, Sellmeier, Tauc-Lorentz, B-spline, oscillatori e altro ancora.
- Montaggio multistrato: supporta fino a 30 strati, comprese interfacce graduate e rugosità superficiale
- Mappatura con un clic: genera automaticamente report sull'uniformità dello spessore per wafer e substrati di grandi dimensioni.
- Licenza offline: consente l'analisi dei dati su computer separati senza vincolare lo strumento
L'interfaccia interattiva e guidata riduce i tempi di formazione: i nuovi utenti possono eseguire misurazioni di routine dello spessore dei wafer in pochi minuti.
Progettato per ambienti di ricerca e produzione.
MSK offre questo ellissometro spettroscopico in diverse configurazioni per soddisfare ogni esigenza:
- Sistema da banco: ideale per laboratori di ricerca e sviluppo e per la ricerca universitaria.
- Configurazione di mappatura: include una piattaforma X/Y ad alta precisione per la scansione automatizzata dei wafer.
- Intervalli spettrali personalizzabili: dall'ultravioletto profondo (193 nm) all'infrarosso a onde corte (2500 nm)
- Opzioni di stadio a temperatura controllata – per misurazioni in situ fino a 1000 °C
Lo strumento utilizza la tecnologia del compensatore a doppia rotazione, che misura tutti i 16 elementi della matrice di Mueller in una singola acquisizione. Ciò fornisce dati più ricchi rispetto agli ellissometri convenzionali, risultando particolarmente utile per campioni anisotropi o depolarizzanti.
Prestazioni affidabili per controlli di qualità critici
Negli ambienti di produzione, la ripetibilità è fondamentale. L'ellissometro spettroscopico di MSK offre una stabilità eccezionale grazie a:
- Rivelatori raffreddati a semiconduttore: basso rumore, elevata gamma dinamica
- Messa a fuoco automatica laser: mantiene una posizione focale costante su tutto il campione.
- Progettazione stabile del percorso ottico: riduce al minimo la deriva tra le calibrazioni
Il sistema soddisfa rigorosi standard di settore e MSK fornisce report metrologici di terze parti per verificare l'accuratezza assoluta dello spessore su campioni standard.
Personalizzazione e supporto – Su misura per la tua applicazione
MSK comprende che ogni applicazione di film sottile è unica. Per questo motivo, l'azienda offre:
- Estensioni personalizzate della gamma spettrale: scegli le bande che corrispondono ai tuoi materiali
- Supporti per campioni specializzati – per wafer di dimensioni non standard o substrati di forma irregolare
- Personalizzazione del software: aggiungi modelli di analisi specifici o routine di automazione
- Installazione e formazione in loco: metti subito il tuo team al corrente delle nuove tecnologie.
Trattandosi di uno strumento di alta precisione, il prezzo indicato nella pagina del prodotto è da intendersi solo come acconto. MSK invita gli acquirenti seriamente interessati a contattare il team di vendita per un preventivo preciso in base alla configurazione richiesta.
Consulenza tecnica e dimostrazione gratuite
Non siete sicuri che l'ellissometria sia adatta al vostro materiale? MSK offre una consulenza tecnica gratuita.
Disponibilità e informazioni di contatto
La nuova serie di ellissometri spettroscopici è disponibile da subito per ordini in tutto il mondo. Per richiedere un preventivo, ricevere una brochure del prodotto o organizzare una dimostrazione online in diretta:
Email: molly@mskcnctools.com
Telefono: 0086-13602071763
Web:www.mskcnctools.com
MSK accoglie con favore richieste di informazioni da parte di stabilimenti di produzione di semiconduttori, istituti di ricerca, produttori di rivestimenti ottici e produttori di celle solari, sia per singole unità che per sistemi complessi.
Informazioni sugli utensili CNC MSK
Fondata nel 2015 e certificata ISO 9001, MSK (Tianjin) Cutting Technology Co., Ltd. è specializzata in strumenti di metrologia di alta precisione e utensili da taglio CNC. Grazie ad attrezzature di produzione tedesche e taiwanesi e a un team di ricerca e sviluppo dedicato, MSK serve clienti in Europa, America e Asia. La missione dell'azienda è fornire soluzioni avanzate, affidabili ed economicamente vantaggiose per la caratterizzazione e la lavorazione dei materiali.
Data di pubblicazione: 10 aprile 2026
