I halvlederfabrikker, FoU-laboratorier og optiske belegganlegg er det avgjørende å kjenne den nøyaktige tykkelsen og de optiske egenskapene til tynne filmer – men tradisjonelle kontaktmetoder kan skade delikate prøver eller gå glipp av viktige data. I dag kunngjør MSK (Tianjin) International Trading CO.,Ltd. sitt nyeste spektroskopiske ellipsometer, et ikke-destruktivt tykkelsesmåleinstrument konstruert formåling av wafertykkelse, brytningsindeksanalyse og karakterisering av flerlagsstabel.
Dette nye systemet kombinerer et bredt spektralområde, høy følsomhet og brukervennlig modelleringsprogramvare – alt i en kompakt plattform av forskningskvalitet. Enten du trenger å måle ultratynne gate-oksider, antirefleksbelegg på solceller eller komplekse OLED-stabler, leverer MSKs spektroskopiske ellipsometer pålitelige, repeterbare data uten å berøre eller skade prøven.
«Ingeniører sliter ofte med å balansere presisjon, hastighet og prøvesikkerhet»sa en erfaren produktsjef i MSK.«Vårt spektroskopiske ellipsometer løser dette – som et ekte tykkelsesmåleinstrument gir det måling av wafertykkelse og analyse av optiske konstanter på sekunder, uten risiko for riper eller forurensning.»
Hvorfor velge dette spektroskopiske ellipsometeret som tykkelsesmåleinstrument
I motsetning til profileringssystemer med én bølgelengde eller mekaniske profileringssystemer, bruker dette spektroskopiske ellipsometeret polarisert lys til å analysere hvordan en tynn film endrer lysets polarisasjonstilstand. Fra denne målingen beregner det flere parametere samtidig:
- Filmtykkelse (enkeltlags til komplekse flerlagsstabler)
- Brytningsindeks (n) og ekstinksjonskoeffisient (k)
- Optisk båndgap (Eg)
- Overflateruhet
Som et allsidig tykkelsesmåleinstrument håndterer det tykkelser fra ultratynne (subnanometer) til relativt tykke filmer – noe som gjør det egnet for alt fra atomlagsavsetning til polymerbelegg på mikronskala.
Ikke-destruktiv måling av wafertykkelse – kritisk for halvlederproduksjon
For halvlederproduksjon,måling av wafertykkelseer viktig for å kontrollere avsetnings-, etsnings- og CMP-prosesser. Mekaniske stylusprofilere kan imidlertid lage riper i myke filmer, og optiske reflektometre mangler ofte følsomhet for flerlagsstabler.
MSKs spektroskopiske ellipsometer overvinner disse begrensningene:
- Kontaktfri og ikke-destruktiv – ingen risiko for skade på mønstrede wafere eller delikate filmer
- Høy følsomhet – i stand til å oppdage variasjoner i tykkelse på subnanometernivå over waferen
- Flerlagsanalyse – måler individuelle lag i komplekse stabler (f.eks. SiO₂/Si₃N₄/poly-Si) uten krysstale
Systemet inkluderer et automatisk kartleggingsstadium som støtter wafere opptil 8 tommer (200 mm) med presis posisjonering. Brukere kan generere 2D- og 3D-tykkelsesfordelingskart med et enkelt klikk – ideelt for overvåking av prosessujevnhet.
Utover halvledere: Bredt bruksområde
Selv om det er optimalisert for måling av wafertykkelse, betjener dette spektroskopiske ellipsometeret mange bransjer:
- Flatskjermer – måler OLED- og TFT-lagtykkelser
- Fotovoltaikk – karakteriserer antirefleksbelegg, transparente ledende oksider og absorberende lag
- Optiske belegg – verifiser båndpassfiltre, antirefleksjonsstabler og speil med høy reflektivitet
- Materialvitenskap – studere tynne filmer, 2D-materialer og polymerer
- Biosensing – oppdage molekylære lag på funksjonaliserte overflater
Instrumentets brede spektralområde (fra ultrafiolett til nær-infrarødt) gjør det mulig å karakterisere materialer fra dyp-UV-litografifilmer til infrarøde optiske belegg.
Avansert, men brukervennlig: Programvare som fungerer for deg
Et kraftig tykkelsesmåleinstrument må også være praktisk for daglig bruk. MSKsspektroskopisk ellipsometerleveres med omfattende analyseprogramvare som inneholder:
- Forhåndsbygd database med optiske konstanter – over 100 materialer, inkludert vanlige halvledere, dielektriske materialer og metaller
- Flere dispersjonsmodeller – Cauchy, Sellmeier, Tauc-Lorentz, B-spline, oscillatorer og mer
- Flerlagsmontering – støtter opptil 30 lag, inkludert graderte grensesnitt og overflateruhet
- Kartlegging med ett klikk – genererer automatisk tykkelsesuniformitetsrapporter for wafere og store substrater
- Offline lisensiering – tillater dataanalyse på separate datamaskiner uten å binde instrumentet opp
Det guidede, interaktive grensesnittet reduserer opplæringstiden – nye brukere kan utføre rutinemessig måling av wafertykkelse i løpet av minutter.
Utviklet for forsknings- og produksjonsmiljøer
MSK tilbyr dette spektroskopiske ellipsometeret i flere konfigurasjoner for å dekke dine behov:
- Benkmontert system – perfekt for FoU-laboratorier og universitetsforskning
- Kartleggingskonfigurasjon – inkluderer høypresisjons X/Y-trinn for automatisert waferskanning
- Tilpassbare spektralområder – fra dyp UV (193 nm) til kortbølget infrarød (2500 nm)
- Temperaturkontrollerte trinnalternativer – for in-situ-målinger opptil 1000 °C
Instrumentet bruker dobbeltroterende kompensatorteknologi, som måler alle 16 Mueller-matriseelementer i én enkelt opptak. Dette gir rikere data enn konvensjonelle ellipsometre – spesielt nyttig for anisotrope eller depolariserende prøver.
Pålitelig ytelse for kritisk kvalitetskontroll
For produksjonsmiljøer er repeterbarhet alt. MSKs spektroskopiske ellipsometer gir eksepsjonell stabilitet takket være:
- Halvlederkjølte detektorer – lavt støynivå, høyt dynamisk område
- Laser autofokus – opprettholder konsistent fokusposisjon på tvers av prøven
- Stabil optisk banedesign – minimerer avvik mellom kalibreringer
Systemet oppfyller strenge bransjestandarder, og MSK tilbyr tredjeparts metrologirapporter for å bekrefte absolutt tykkelsesnøyaktighet på standardprøver.
Tilpasning og støtte – Skreddersydd til din applikasjon
MSK forstår at alle tynnfilmapplikasjoner er unike. Derfor tilbyr selskapet:
- Tilpassede spektralområdeutvidelser – velg båndene som matcher materialene dine
- Spesialiserte prøvefaser – for ikke-standardiserte waferstørrelser eller underlag med uvanlig form
- Programvaretilpasning – legg til spesifikke analysemodeller eller automatiseringsrutiner
- Installasjon og opplæring på stedet – få teamet ditt raskt opp i fart
Fordi dette er et høypresisjonsinstrument, er prisen som vises på produktsiden kun et depositum. MSK inviterer seriøse kjøpere til å kontakte salgsteamet for et nøyaktig pristilbud basert på din nødvendige konfigurasjon.
Gratis teknisk konsultasjon og demonstrasjon
Er du usikker på om ellipsometri er riktig for materialet ditt? MSK tilbyr gratis teknisk konsultasjon.
Tilgjengelighet og kontaktinformasjon
Den nye spektroskopiske ellipsometerserien er tilgjengelig for globale bestillinger umiddelbart. For å be om et tilbud, motta en produktbrosjyre eller avtale en live online demonstrasjon:
Email: molly@mskcnctools.com
Telefon: 0086-13602071763
Nett:www.mskcnctools.com
MSK tar imot henvendelser fra halvlederfabrikker, forskningsinstitutter, produsenter av optiske belegg og solcelleprodusenter – fra enkeltstående enheter til flere systemer.
Om MSK CNC-verktøy
MSK (Tianjin) Cutting Technology Co., Ltd. ble grunnlagt i 2015 og ISO 9001-sertifisert, og spesialiserer seg på høypresisjons måleinstrumenter og CNC-skjæreverktøy. Med tysk og taiwansk produksjonsutstyr og et dedikert FoU-team betjener MSK kunder i Europa, Amerika og Asia. Selskapets misjon er å tilby avanserte, pålitelige og kostnadseffektive løsninger for materialkarakterisering og maskinering.
Publisert: 10. april 2026
